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高纯水制取设备系统/混合离子交换器/抛光混床制水设备

高纯水制取设备系统/混合离子交换器/抛光混床制水设备

 详情说明

一、高纯水制取设备系统/混合离子交换器/抛光混床制水设备概述:
高纯水制取设备通常由多介质过滤器,活性碳过滤器、钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI 电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均 设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人值守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使该设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。
抛光混床一般用于水处理系统末端,来保证系统出水水质能够维持用水标准。一般出水水质都能达到18兆欧以上,以及对TOC、SIO2都有一定的控制能力。抛光混床纯水设备树脂出厂的离子型态都是H、OH型,装填后及可使用无需再生。一般用于半导体行业。 
为获得电子、医药或其他行业用电导率0.055μS/cm(电阻率18.2 MΩ•cm)的理论纯水,在普通混床或EDI净水设备后,通常还装设抛光混床进行最终的精处理。这种抛光混床用树脂是相对密度很接近的阴树脂和阳树脂的混合物,由于无法将这种树脂的阴、阳树脂分离,不能用酸碱将它们分别再生,所以这种抛光树脂失效后,弃之不用

二、高纯水制取设备系统/混合离子交换器/抛光混床制水设备参数
1、用于生产≥18.2mΩ.cm以上超纯水,一般与反渗透离子交换器,EDI装置等配套使用,用水系统一般设计为循环管路,以使用水点保持新鲜,合格状态,避免死水出现。 
2、主要用干电子、半导体、太阳能电池板等行业。
3、双极RO+EDI出水水质电阻率达到≥16 mΩ.cm
4、双极RO+EDI抛光混床出水电阻达到≥18.2 mΩ.cm

三、高纯水制取设备系统/混合离子交换器/抛光混床制水设备特点:
1、制取电子级超纯水
2、可连续自动生产,不必停机再生
3、运行成本低,占地面积小


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